Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения Техносфера 978-5-94836-519-0, Берлин Е., Григорьев В., Сейдман Л
Цена: 1199 руб.
Категория: Научно-популярная литература, Физические науки
Цены на книгу в магазинах: | ||
My-shop.ru | - 598 руб. 0% | |
Лабиринт | - 690 руб. 0% | |
book24 RU | - 1199 руб. 0% | |
Читай-город | - 1199 руб. 0% | |
Буквоед | - 1199 руб. 0% |
Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,01-0,04 мкм. Для технологии изготовления изделий с микро- и наноэлементами использование ВЧ разряда индуктивно связанной плазмы (ICP) как плазмообразующего источника предоставляет большие преимущества. В частности, с его помощью достигают высокую плотность плазмы (10"-1012 см-3), минимальный разброс ионов по энергиям (Aei < 5 эВ), относительно низкое рабочее давление (Ю^-ИО-1 Па) и низкую энергетическую цену иона (30-^80) эВ/ион. Благодаря отсутствию накаливаемых узлов источник ICP обладает большим ресурсом работы с химически активными газами. Особенно важно, что он предоставляет возможность независимого управления энергией и плотностью потока ионов, поступающих на подложку. Успехи в конструировании источников ICP для целей микроэлектроники побудили разработчиков оборудования применить их и в других отраслях, например в азотировании стальных деталей, обработке полимерных пленок и нанесении специальных покрытий методами PVD и PECVD. .За последнее десятилетие источники ICP нашли широкое промышленное применение, о котором появилось большое количество новой информации. Поэтому назрела необходимость составления обзора, цель которого — систематизация основных экспериментальных результатов разработки и применения источников ICP. В книге приведено описание принципов действия, особенностей и преимуществ источников ICP и рассмотрены многочисленные варианты конструкций современных источников ICP. Приведены также примеры технологических применений описываемых источников для нанесения тонких пленок: в процессах PVD и PECVD. И кроме того, описано формирование плазмохимическим травлением трехмерных структур в различных материалах и двумерных структур в тонких пленках и связанное с такой обработкой существенное изменение свойств поверхностей различных материалов, в особенности полупроводников. .Таким образом, настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по конструкциям и применению источников ICP. Книга рассчитана на студентов, аспирантов, конструкторов нового технологического оборудования, использующего источники ICP, и технологов, работающих на таком оборудовании. Конструкторы найдут в ней обзор способов достижения высоких параметров источников ICP, а технологи ознакомятся с широким спектром их применения и полученных с их помощью достижений. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
Издательство: Техносфера
ISBN: 978-5-94836-519-0
Объем: 464
Автор: Берлин Е., Григорьев В., Сейдман Л.
Год: 2018
Код номенклатуры: ORS087844290954269
Электронная: Нет
noСкидка: no
подробнее...
ISBN: 978-5-94836-519-0
Объем: 464
Автор: Берлин Е., Григорьев В., Сейдман Л.
Год: 2018
Код номенклатуры: ORS087844290954269
Электронная: Нет
noСкидка: no
подробнее...
Комментарии, отзывы о "Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения":
Добавить первый отзыв ...
Посетители интересовались: